概述

表面科學研究的是表面和與表面有關的宏觀和微觀過程，從原子水平認識和說明表面原子的化學、幾何排列、運動狀態、電子態等性質及其與表面宏觀性質的聯系。表面分析的主要內容有：

（1）表面化學組成：表面元素組成，表面元素的分布，表面元素的化學態，表面化學鍵，化學反應等；可用技術：XPS（X- ray Photoelectron Spectroscopy，X射線光電子能譜）、AES（Auger Electron Spectroscopy，俄歇電子能譜）、SIMS（Secondary Ion Mass Spectroscopy，二次離子質譜）、ISS（ Ion Scattering Spectroscopy，離子散射譜）。

（2）表面原子結構：表面層原子的幾何配置，確定原子間的精確位置。表面弛豫，表面再構，表面缺陷，表面形貌；可用技術：LEED（Low Energy ElectronDiffraction，低能電子衍射）、RHEED（Reflection High - Energy Electron Diffrac-tion，反射式高能電子衍射）、EXAFS（Extended X- ray Absorption Fine Structure，擴展X射線吸收精細結構譜）、SPM（Scanning Probe Microscope，掃描探針顯微鏡）、FIM（Field Ion Microscope，場離子顯微鏡）。

（3）表面原子態：表面原子振動狀態，表面吸附（吸附能、吸附位）、表面擴散等；可用技術：EELS（Electron Energy Loss Spectroscopy，電子能量損失譜）、RAIRS（Reflection Absorption InfraRed Spectroscopy，反射吸收紅外譜）。

（4）表面電子態：表面電荷密度分布及能量分布（DOS）、表面能級性質、表面態密度分布、價帶結構、功函數、表面的元激發。可用技術：UPS（UltravioletPhotoelectron Spectroscopy，紫外光電子能譜）、ARPES（Angle Resolved PhotoEmis-sion Spectroscopy，角分辨光電子能譜）、STM（Scanning Tunneling Microscope，掃描隧道顯微鏡）。

20世紀60年代全金屬超高真空（UHV）技術商品化后，極大地促進了表面和界面科學的發展，開發了多種表面分析技術，這些技術覆蓋了電子和離子譜、表面結構測定方法以及原子成像方法等，可用以從原子、分子的微觀尺度七獲取更多表面組成與性質的基本知識。白70年代以來，隨著世界范匍內的半導體工業、微電子技術和航天技術的興起，對表面、界面科學和分析的重視和需求達到r李前的地步，也推動了表面科學和技術的迅速和持續發展。表面發生的過程對從半導體技術到異相催化等各個領域具有極大的實用性和重要意義，對同體表面相關的問題的研究逐漸成為基礎科學研究的前沿。

分類: 1. 表面形貌分析

      2. 表面成分分析

      3. 表面化學狀態分析

      4. 表面顏色、色差測試

      5. 表面相結構分析

      6. 表面應力分析

      7. 表面粗糙度測試

      8. 表面異物分析

      9. 表面失效分析

     10.表面處理工藝判斷